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euv光刻機(jī)原理是接近或接觸式光刻通過無限靠近，復(fù)制掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點(diǎn)，通過運(yùn)動(dòng)工件臺(tái)或鏡頭掃描實(shí)現(xiàn)任意圖形加工。投影式光刻因其高效率、無損傷的優(yōu)點(diǎn)，是集成電路主流光刻技術(shù)。

光刻機(jī)（Mask Aligner）是制造微機(jī)電、光電、二極體大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵設(shè)備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時(shí)模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機(jī)原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機(jī)被稱為“現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花”，制造難度很大，全世界只有少數(shù)幾家公司能制造。